parylene真空镀膜是利用的真空化学气相沉积cvd(chemicalvapordeition)的方式，将parylene原料为150℃中气化，再经650℃中进行裂解，而成为活性单体，水表防水镀膜，在室温真空舱体里由活性单体小分子在基材表面结晶成一层包覆性的聚合物薄膜层，可以于各种形状物体表面均匀形成薄膜，薄膜厚度可由1μm~50μm，膜厚均匀、质轻无、透明无应力、高绝缘性及披覆性、耐溶剂、抗酸碱、防锈，是当代led灯具产业ip规范、防尘、防水、防潮较佳伙伴。
parylene真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，---物，金属，水表防水镀膜技术，碳化物，复合结构，水表模级防水镀膜原理，---物，纳米薄层等。 中空纳米管，水表防水镀膜加工，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（mems）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，znse涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。
真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是pvd法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理：充(ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(ar)原子电离成氮离子(ar)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
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