不导电（ncvm）镀膜设备ncvm又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的---。真空电镀，简称 vm， 是vacuum metalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
进口不导电（ncvm）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（ncvm）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高，---镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度，拥有的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。
parylene ht，该材料具有---的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
cvd（chemical vapor deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °c高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°c 的升华区内升华，parylene 镀膜，在惰性气体的推动下，二聚体进入温度为 660°c 的裂解区，高温下二聚体的分子键断裂，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
派瑞林涂层是化学气相沉积法，parylene 耐温，是反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
紫外线照射的薄膜与未---的薄膜之间的故障时间之间的---差异为聚对二c和n的正确使用条件提供了重要的认识。聚对二d，c，parylene 涂层，n，af4的化学结构定义了由于紫外线引起的降解接触。聚对二n是未取代的烃分子，聚对二c每个重复单元具有一个加氯基，parylene，聚对二d每个重复单元具有两个加氯基。相比之下，聚对二af4用氟原子取代了化学品---环上的氢原子，从而---增强了其紫外线稳定性。
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