1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，纳米涂层液，派瑞林的制备工艺和优---能相结合，使它能对小型---型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸---10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者---型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。
2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。
3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，纳米涂层，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，经派瑞林（parylene）涂敷过的集成电路芯片，防油纳米涂层，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。
与化学吸附自---过程不同，顺次反应自---原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面化学反应来驱动的。这样得到的沉积薄膜是由于前驱体与基体材料间的化学反应形成的。图a和b分别给出了这两种自---反应过程的示意图。由图可知，化学吸附自---过程的是由吸附前驱体1（ml2）与前驱体2（an2）直接反应生成ma原子层（薄膜构成），主要反应可以以方程式⑴表示。对于顺次反应自---过程首先是活化剂（an）活化基体材料表面；然后注入的前驱体1（ml2）在活化的基体材料表面反应形成吸附中间体（aml），这可以用反应方程式⑵表示。反应⑵随着活化剂an的反应消耗而自动终止，具有自---性。当沉积反应前驱体2（an2）注入反应器后，就会与上述的吸附中间体反应并生成沉积原子层。
对于在太空飞行的航天器来讲，真空是一个天然的、现实的外部环境，模具纳米涂层，为真空绝缘应用提供了的自然条件。通过派瑞林真空气相镀膜保护技术，对实际的产品进行了绝缘设计及工艺验证。结果表明，采用真空气相沉积工艺在电极表面涂敷一定厚度的parylene涂层，可以---地满足产品在真空环境下的绝缘防护性能要求。
真空绝缘是基于空气击穿放电的机理，不同于固体或液体绝缘，因其本身的”真空”，缺少足够的可以移动的离子，也不会受到材料老化影响，不会受到机械、热、化学、湿度、辐射等因素的影响，这是在应用时的天然形成的许多优点，正是基于这些优点，分析认为更符合在空间环境中应用的高电压电子产品。
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